願景:
一、超高效率薄膜太陽能電池且具備低製造成本與低污染之優點。
二、世界最大之薄膜太陽 能電池製造商。
目標:
一、超大生產面積 (1.1×1.4m2)。
二、大面積鍍膜的均勻性。
三、降低光衰退性(light degradation),提高可靠性。
四、提昇鍍膜品質,尤其是界面(interface)的長晶控制。
五、提昇電極(electrode)的導電性,改善發電電流的引導。
六、抗反射(anti-Reflection) 和表面texturing的處理。
七、對太陽光「光譜」反應發電的最佳化。
八、加快微結晶矽(microcrystalline Si)的鍍膜速度,以降低tact time,增加throughput。
九、半透光式模組的開發。
策略:
一、積極與國外大廠合作。
二、發展次世代設備機台(VHF PECVD)。
三、Turn key設備機台本土化(與國內廠商技術合作)。
四、與上下游廠商進行策略聯盟。
五、積極招募與訓練國內外相關人才。
六、與學界進行建教合作。